離子濺射蒸碳儀 型號:WZX/SD-900C

一、雙功能技術(shù)原理
噴金噴碳儀集成直流濺射與碳纖維繩熱蒸發(fā)蒸碳雙功能，屬于物理|氣相沉積（PVD）復(fù)合技術(shù)范疇，是通用單一功能設(shè)備無法替代的方案。噴金功能采用直流濺射原理，在≤4×10?2mbar低真空環(huán)境下，氬氣被電離產(chǎn)生等離子體，正離子高速轟擊鉑靶表面，使鉑原子均勻沉積形成致密導(dǎo)電薄膜；噴碳功能采用定制化碳纖維繩熱蒸發(fā)技術(shù)，通過28V高壓、100A大電流瞬時加熱碳纖維繩，使其快速蒸發(fā)并沉積為CHAO薄碳膜，膜層厚度可通過0-1s精ZHUN定SHI控制。雙功能共享一套真空系統(tǒng)與控制系統(tǒng)，無需換設(shè)備即可完成兩種預(yù)處理工藝，大幅提升樣品處理效率與兼容性。

離子濺射蒸碳儀 型號:WZX/SD-900C

二、應(yīng)用場景
科研檢測領(lǐng)域
適配掃描電鏡（SEM）、透射電鏡（TEM）樣品預(yù)處理，噴金適用于陶瓷、塑料等常規(guī)絕緣樣品，噴碳針對生物組織、CHAO薄材料、冷凍樣品等熱敏/對膜厚敏感的樣品，可避免電子積累與樣品SUN傷，保障高倍鏡下成像，是考古文物、生物樣本微觀分析的設(shè)備。
材料領(lǐng)域
用于高分子材料、納米材料、碳纖維復(fù)合材料的表面改性，噴碳可制備高附著力碳膜，提升材料導(dǎo)電性與光熱轉(zhuǎn)化效率；噴金可制備貴金屬電極，適配傳感器、光電器件等需求，兼顧多材料、多場景實驗需求。
生物YI LIAO領(lǐng)域
針對含水生物樣品、YI用耗材進行預(yù)處理，噴碳膜層薄且生物相容性佳，可避免影響樣品活性；噴金用于XUE糖儀試紙、生物傳感器等耗材的電極制備，保障檢測信號穩(wěn)定傳輸，適配與。
高校教學(xué)領(lǐng)域
適配材料、電子、生物教學(xué)與科研，可直觀展示濺射與熱蒸發(fā)兩種PVD技術(shù)原理，設(shè)備操作簡單、體積小巧，能快速完成小批量樣品實驗，兼顧教學(xué)演示與科研創(chuàng)新需求，是復(fù)合型教學(xué)設(shè)備。

離子濺射蒸碳儀 型號:WZX/SD-900C

三、技術(shù)參數(shù)
參數(shù)類別 詳細規(guī)格
整機結(jié)構(gòu) 1、采用主機+副機分體式設(shè)計，
主機尺寸300mm×360mm×380mm、
副機300mm×360mm×140mm（W×D×H），
2、總重40Kg，副機承載熱蒸發(fā)模塊，主機集成濺射與真空系統(tǒng)，布局優(yōu)化且占用空間0.22㎡，較同類復(fù)合設(shè)備體積縮減40%，適配實驗室緊湊空間，一體化復(fù)合結(jié)構(gòu)無通用替代方案。
樣品室與雙功能系統(tǒng) 1、樣品室尺寸160mm×120mm（D×H），采用高透光硼硅酸鹽玻璃，可實時觀察雙功能鍍膜過程，玻璃經(jīng)防濺射涂層處理，避免靶材/碳粉附著影響視野。
2、濺射面積Φ50mm（匹配小型樣品），蒸碳面積140mm（適配大面積樣品），雙功能工位較單一功能設(shè)備兼容性提升一倍。
靶材與蒸發(fā)材料 1、標配Φ50mm×0.1mm高純度鉑（Pt）靶材（純度99.99%），與濺射靶一體化設(shè)計，濺射均勻性偏差≤±3%；蒸發(fā)材料采用碳纖維繩，耐高溫、蒸發(fā)速率穩(wěn)定，相較于石墨蒸發(fā)源，碳膜純度、附著力，且與熱蒸發(fā)模塊適配，通用材料無法達到同等蒸碳效果。
濺射與蒸碳控制參數(shù) 1、濺射參數(shù)：電壓-1600DCV，
電流50mA，
電流穩(wěn)定度±0.1mA，
標準濺射速率40nm/分鐘，
0-999s定SHI器秒JI調(diào)控；
2、蒸碳參數(shù)：電壓28V，
電流100A，
0-1s SHUN時加熱控制，
可精ZHUN制備10-50nm CHAO薄碳膜。
3、雙功能參數(shù)獨立存儲、聯(lián)動控制，控制系統(tǒng)可避免參數(shù)干擾，通用設(shè)備無法實現(xiàn)雙功能協(xié)同。
真空與氣路系統(tǒng) 4、皮拉尼真空計，測量范圍1×10?3-1×103mbar，針對雙功能場景校準，顯示精度±0.01mbar，可穩(wěn)定維持≤4×10?2mbar工作真空度；微型真空氣閥可連接φ3mm軟管，可連通惰性氣體提高成膜質(zhì)量，密封性經(jīng)測試（漏率≤1×10??mbar·L/s），保障雙功能真空環(huán)境穩(wěn)定性。
動力與冷卻系統(tǒng) 1、標配2L/S機械泵，與雙功能系統(tǒng)適配性JIA，運行噪音≤55dB，從大氣抽至工作真空度需3-5分鐘；
2、冷卻系統(tǒng)標配風(fēng)冷，效率較通用風(fēng)冷提升25%。注：若單次濺射CHAO 3分鐘或制備厚膜，建議加裝原廠電冷裝置，控溫保護樣品與設(shè)備。
靶體配置 1、標配二極直流濺射靶，滿足常規(guī)噴金需求；
2、選配磁控靶（適配后濺射電流可達100mA），磁控靶采用磁路設(shè)計，濺射速率較二極靶提升30%。